P+F倍加福硅片檢測過程
P+F倍加福硅片檢測過程
自“一帶一路”倡議提出以來，中國致力于發(fā)展綠色絲綢之路，加強與沿線國家的合作，促進共同發(fā)展。光伏也成為了“一帶一路”上類似高鐵、核電等優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)走出去的一部分，在沿線國家及區(qū)域的可再生能源應用上也起到了巨大推動作用。
太陽能以其無污染、可持續(xù)、總量大、分布廣等優(yōu)點頗受青睞。不止是建筑用，從光伏與農(nóng)業(yè)的結(jié)合到3C產(chǎn)品，太陽能的利用已深入到日常生活的方方面面，而保障太陽能的應用，光伏材料——硅片是源頭。一方面，硅片的內(nèi)部缺陷和雜質(zhì)會直接影響電池的效率和穩(wěn)定性，另一方面，硅片的外觀缺陷和表面質(zhì)量對電池的制造和外觀也有直接的影響。
從硅礦石的提煉到硅片的生產(chǎn)以及電池片的加工運輸過程，如何實現(xiàn)并確保硅片的完整性？檢測設備如何、地測出壞損？
加快檢測過程的響應時間
倍加福扁平型光電R2F/R3F具有Powerbeam清晰紅光和Durabeam激光兩種可選光源，紅光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速響應時間大大提高了設備的運行速率,保證了客戶的高產(chǎn)能需求。
穩(wěn)定檢測硅片
硅片的檢測從光伏產(chǎn)業(yè)上游貫穿到中游，在各種硅片自動化設備中都顯得非常重要，尤其是硅片經(jīng)化學處理（如清洗、擴散、蝕刻等）后其反射率會有較大的改變。倍加福扁平式光電R2F/R3F具有的背景抑制功能，在檢測過程中幾乎不受硅片的反射率影響，保證了硅片檢測的可靠性。
提高定位精度
新型激光技術DuraBeam Laser也使得R2F/R3F成為市場上zui為扁平的激光產(chǎn)品。DuraBeam激光是充分結(jié)合了LED光源和激光傳感器的優(yōu)點，具有更長的使用壽命。與傳統(tǒng)激光相比，DuraBeam激光光斑小而且呈現(xiàn)圓形，這對于硅片的定位檢測來說具有兩大優(yōu)勢：一，對傳感器安裝方位無要求；二，小光點提高了定位的精度要求。
R2R3系列產(chǎn)品*，為多樣化的應用需求提供的解決方案
創(chuàng)新的DuraBeam激光技術，提高產(chǎn)品的耐用性，適合用在較寬的溫度范圍
背景抑制型漫反射傳感器，能可靠地檢測目標物，屏蔽背景
反射板型傳感器，通過降低接線成本，高性價比，可有效替換對射型產(chǎn)品
防靜電耐刮擦鏡片，保證了產(chǎn)品的耐用性，并不受偶爾碰撞的影響，防止灰塵吸附。
P+F倍加福硅片檢測過程
- 上一篇：德國E+H壓力變送器概述
- 下一篇：BURKERT寶德電磁閥故障排除
